ATD产品介绍: 
芯硕ATD系列无掩膜直写光刻设备基于先进的第二代光刻直写技术,通过空间光调制器扫描技术实现直写光刻。

该系列产品在应用中省去了繁琐的掩膜加工步骤，相比单束直写具有效率高、技术先进、应用灵活等特点。该系列产品采用芯硕专利技术的大功率LED/LD（波长405nm）或准分子激光（波长248nm）光源，可达0.35um解析度和80nm的套刻精度。可应用于大规模集成电路90nm工艺节点用掩膜版制作、微纳加工、MEMS、LED、生物芯片等。

ATI产品介绍:

芯硕ATI系列检测设备针对半导体制程中光学检测需求开发设计，同时具有套刻、线宽和缺陷检测三种功能，可满足90nm工艺节点的套刻测量，0.5um以上的线宽测量及用户自定义的缺陷检测。

ATI系列产品采用先进的图形处理技术和成像系统，具有测量精度高、速度快、应用灵活等特点，可使用于半导体工艺、微纳加工、MEMS、LED等领域中的良率控制。

LDI产品介绍:

芯硕LDI(Laser Direct Imaging)系统，基于已经自主开发成熟的第二代光刻直写技术，通过空间光调制器扫描技术，实现多束激光直接成像。免除传统的底片制造，直接成像，在图像转移质量、生产周期和成本上，优于传统的工艺。产品适用于：

1）高精密、ANY LAYER的HDI，对准能力≤10um；

2）少量多样、高稼动率的样板；

3）用于量产的LDI 6800HS, 全自动化激光直接成像解决方案，给用户带来更大的收益；

4）适用于PCB全制程图像转移。